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ECRスパッタ装置開発関連　解説記事
1. 山本節夫，岡田繁信：
“反応性ＥＣＲスパッタリング法による酸化物薄膜の低温高速作製,”
IDEMA JAPANNEWS No.55, 2003年7・8月号, IDEMA JAPAN (国際ディスクドライブ協会)，Web：http://www.idema.gr.jp/news/news_home.htm (July, 2003)




ECRスパッタ装置開発関連　論文
1.

田中輝光,大城和宣,藤森宏高,栗巣普揮,下里義博,岡田繁信,松浦　満,山本節夫：
“反応性電子サイクロトロン共鳴（ＥＣＲ）スパッタ法によるフェライト薄膜の低温高速作製,”
真空, Vol.49, No.7, pp.424-429 (2006).
2. 山本節夫、松浦　満、岡田繁信、下里義博：
“ECRスパッタ法によるフェライト薄膜の低温高速製造技術と量産対応型ECRスパッタ装置の開発に関する研究,”
粉体および粉末冶金, Vol.53, No.8(2006)(in pre
3. 田中輝光，栗巣普揮，松浦　満，山本節夫，下里義博，岡田繁信：
“反応性ＥＣＲスパッタ法によるフェライト薄膜の低温高速作製,”
真空,(2006). (in press)
4. 田中輝光，石田　元，下里義博，岡田繁信，松浦　満，山本節夫：
“低電圧ECRスパッタ法によるNi-Znフェライト薄膜の作製，”
日本応用磁気学会誌, Vol.29, No.4, pp.468-471 (2005).
5. Setsuo Yamamoto, Tomoharu Ogita, Hiroki Kurisu, Mitsuru Matsuura, and Yoshihiro Shimosato：
“High-rate-deposition of Ni-Zn ferrite thin-films using ECR sputtering with conictarget，”
Physica Status Solidi, (a) 201, No.8, 1781-1785 (2004).
6. 山本節夫，荻田知治，栗巣普揮，松浦 満，下里義博，岡田繁信：
“コーン型ターゲットを用いた反応性ECRスパッタ法によるNi-Znフェライト薄膜の高速作製,”
日本応用磁気学会誌, Vol.28, No.5, pp.703-706 (2004).
7. T. Ogita, S. Yamamoto, H. Ishida, H. Kurisu, M. Matsuurura, Y. Shimosato and S. Okada:
“High Rate and Low Temperature Sputter-Deposition of Ni-Zn Ferrite Thin Films,”
Transactions of the Materials Research Society of Japan, MRS-J, Vol.29, No.4,pp.1631-1634 (2004)
8. 山本節夫，原田和宏，栗巣普揮，松浦　満：
“Ni-Znフェライト薄膜を使用したインダクタ，”
粉体粉末冶金Vol.51, No.3, pp.184-189 (2004)
9. H. Wada, S. Yamamoto, H. Kurisu, M. Matsuura, and Y. Shimosato：
“Low Temperature Sputter-Deposition of Ni-Zn Ferrite Thin-Films UsingElectron-Cyclotron-Resonance Microwave Plasma,”
Transactions of the Materials Research Society of Japan, MRS-J, Vol.28, No.4,pp.1105-1108 (Dec. 2003).
10. H. Wada, S. Yamamoto, H. Kurisu, M. Matsuura, Y. Shimosato:
“Reactive ECR-Sputter-Deposition of Ni-Zn Ferrite Backlayers for PMR Media,”
IEICE TRANSACTIONS on Electronics, Vol.E86-C, No.9, pp.1846-1850 (2003).
11. 和田宏文，山本節夫，栗巣普揮，松浦 満，下里 義博：
“反応性ECRスパッタリング法によるNi-Znフェライト薄膜の低温作製,”
日本応用磁気学会誌，Vol.27, No.4, pp.363-366 (2003).






ECRスパッタ装置開発関連　学会発表
1.

下里義博、岡田繁信、田中輝光、栗巣普揮、山本節夫：
“ＥＣＲスパッタ法による高結晶性MgO超薄膜の作製,”
第25回プラズマプロセシング研究会(SPP-25)，A5-04, pp.85-86,
応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会, (Jan. 23-25, 2008). @山口県教育会館
2.

山本節夫： “ECRプラズマを活かした薄膜材料の作製技術（ECRスパッタ法）,”
プラズマ技術応用勉強会, 東海ものづくり創生協議会 （Oct. 7, 2006）.
@中部大学　中部科学技術センター
3.

山本節夫、松浦　満、岡田繁信、下里義博：
“ECRスパッタ法によるフェライト薄膜の低温高速製造技術と量産対応型ECRスパッタ装置の開発に関する研究,”
粉体粉末冶金協会講演概要集平成17年度秋季大会（第96回講演大会）, 2-9, p.49,　　　　(Nov. 14, 2005).  @アクトシティー浜松コングレスセンター　【招待講演】
4.

T. Tanaka, K. Oshiro, H. Fujimori, H. Kurisu, Y. Shimosato, S. Okada, M. Matsuura and S. Yamamoto:
“ Fabrication of ultra thin Ni-Zn ferrite films using ECR sputtering method,”
50th Conference on Magnetism and Magnetic Materials (MMM), EV-09 (Nov. 2, 2005).
San Jose, California, USA.　　　Poster
5.

山本節夫，荻田知治，栗巣普揮，松浦　満，下里義博:
“酸化鉄薄膜製造用高速スパッタ装置の開発,”
 日本学術振興会磁気記録第144委員会研究報告, 160-3, 弘済会館,(March 13, 2003).　オーラル発表
6.
 田中輝光，落合亨，大城和宣，藤森宏高，栗巣普揮，下里義博，岡田繁信，松浦 満，山本節夫：
]“低ターゲット電圧スパッタによるNi-Znフェライト薄膜の結晶配向性の向上,”
“Improvement of Crystal Orientation for Ni-Zn Ferrite Thin Film Deposited with Low TargetVoltage Sputtering,”
第16回日本MRS学術シンポジウム, Program and Abstracts, D2-O19-D, p.136,(Dec. 11, 2005).
@日本大学（駿河台校舎）
7. 田中輝光，村上智，大城和宣，藤森宏高，栗巣普揮，下里義博，岡田繁信，松浦 満，山本節夫：
“反応性スパッタ法を用いたNi-Znフェライト超薄膜の作製,”
“Fabrication of Ultra Thin Ni-Zn Ferrite Films Using Reactive ECR Sputtering Method,”
第16回日本MRS学術シンポジウム, Program and Abstracts, D2-O18-D, p.136(Dec. 11, 2005).
@日本大学（駿河台校舎）
8. 山本節夫，松浦　満，岡田繁信，下里義博：
“ECRスパッタ法によるフェライト薄膜の低温高速製造技術と量産対応型ECRスパッタ装置の開発に関する研究,”
粉体粉末冶金協会講演概要集平成17年度秋季大会（第96回講演大会）, 2-9, p.49,(Nov. 14, 2005).@アクトシティー浜松コングレスセンター
9. 落合亨，田中輝光，大城和宣，藤森宏高，栗巣普揮，下里義博，岡田繁信，松浦  満，山本節夫:
“低ターゲット電圧ECRスパッタにおける残留ガスの影響,”
第29回日本応用磁気学会学術講演概要集, 22aD-3, p.417 (Sep. 22, 2005).
@信州大学工学部
10. 山本節夫，栗巣普揮，松浦　満，下里義博，岡田繁信：
“反応性ＥＣＲスパッタ法によるフェライト薄膜の低温高速作製,”
日本真空協会スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会，Vol.20, No.3,pp.13-22
(July 15, 2005).
11. 村上　智，石田　元，田中輝光，松浦　満，山本節夫，下里義博，岡田繁信：
“MgO下地層を利用したヘテロエピタキシャルNi-Znフェライト超薄膜の作製,”
(社)粉体粉末冶金協会平成17年度春季大会, 3-17A, p.83 (May 1, 2005).
早稲田大学 国際会議場
12. 落合　亨，田中輝光，松浦　満，山本節夫，下里義博，岡田繁信：
“反応性ECRスパッタ法によるNi-Znフェライト薄膜の低ターゲット電圧成膜,”
(社)粉体粉末冶金協会平成17年度春季大会，3-16A, p.82 (May 1, 2005).
早稲田大学 国際会議場.
13. 石田　元，荻田知治，田中輝光，大城和宣，藤森宏高，栗巣普揮，松浦　満，山本節夫：
“低電圧でのECRスパッタ法によるNi-Znフェライト薄膜の作製,”
第28回日本応用磁気学会学術講演概要集, 24aC-2, p.480 (Oct. 24, 2004).
@沖縄コンベンションセンター
14. 山本節夫：
“化合物薄膜の低温・高速・大面積ＥＣＲスパッタ成膜技術とその応用,”
「最新成膜技術とその応用・例」日本テクノセンター(Sep. 2, 2004).
15. 山本節夫：
“高品質な酸化物/窒化物薄膜の高速・大面積作製を可能にしたＥＣＲスパッタ
装置,”
第1回ＲＴプラザ(July 9, 2004).@宇部興産株式会社
16. 松浦   満，山本節夫，栗巣普揮：
“高品質酸化物薄膜の高速･大面積作製が可能な新規スパッタ装置,”
平成15年度地域別産学公技術交流会プレゼンテーション資料「技術シーズ集」，
やまぐち産業振興財団, (2004).
17. 山本節夫：
“酸化物薄膜の低温高速作成,”
平成15年度第3回「新素材交流研究会」資料集，(財)中国技術振興センター　
＠山口(Dec.11, 2003)
18. 石田　元，荻田知治，山本節夫，栗巣普揮，松浦　満，下里義博，岡田繁信：
“ECRスパッタ法によるNi-Znフェライト薄膜の高速作製,”
第４回 ＭＲＳ‐Ｊ 山口大学支部 研究発表会 講演予稿集, MRSJ-Yp-2, pp.22-23,
山口大学工学部，(Dec. 6, 2003).
19. Tomoharu Ogita, Setsuo Yamamoto, Hiroki Kurisu, Mitsuru Matsuura,
and Yoshihiro Shimosato：
“High-rate-deposition of Ni-Zn ferrite thin-films using ECR sputtering with conic target,”
International Symposium on Magnetic Materials and Aplications and Winter Conference
of the Korean Magnetics Society (2003 SOMMA/KMS meeting), Ac-3, p.208, Daejeon,
Korea (Dec. 5, 2003).
20. 石田　元，山本節夫，栗巣普揮，松浦　満：
“ECRスパッタ法で作製したNi-Znフェライト薄膜の酸化処理,”
粉体粉末冶金協会講演概要集,平成15年度秋季大会,大阪大学　
コンベンションセンター，(Nov. 6-8, 2003).
21. 荻田知治，山本節夫，栗巣普揮，松浦 満，下里義博，岡田繁信：
“コーン型ターゲットを用いた反応性ECRスパッタ法によるNi-Znフェライト薄膜の高速作製,”
第27回日本応用磁気学会学術講演概要集, 16aF-5, p.109 (2003).
22. T. Ogita, S. Yamamoto, H. Ishida, H. Kurisu, and M. Matsuurura：
“High Rate and Low Temperature Sputter-Deposition of Ni-Zn Ferrite Thin Films,”
ISAM2, Symposium B-9, The 8th IUMRS International Conference on Advanced Materials (IUMRS-ICAM 2003),B9-10-O07, Abstracts 1, p.259, Yokohama, Japan, (Oct.8-13, 2003).
23. Setsuo YAMAMOTO, Hirofumi WADA,Hirofumi KUNIKI,Hiroki KURISU and Mitsuru MATSUURA：
“Preparation of Co-containing spinel ferrite / Ni-Zn ferrite double-layer perpendicular recording media,”
Joint [NA]PMRC 2003, Digest of Technical Papers, MP-07, p.23,　Montererey, California USA (Jan. 6-8, 2003).
24. Hirofumi Wada, Setsuo Yamamoto, Hiroki Kurisu, Mitsuru Matsuura, and Yosihiro Simosato：
“LOW TEMPERATURE SPUTTER-DEPOSITION OF Ni-Zn FERRITE THIN-FILMS USING ELECTRON-CYCLOTRON-RESONANCE MICROWAVE PLASMA,”
第14回日本ＭＲＳ学術シンポジウム, M1-O05-M, p.237, 東京工業大学 (Dec. 20, 2002).
25. Setsuo Yamamoto, Wada Hirofumi, Hiroki Kurisu, Mitsuru Matsuura, and Yoshihiro Shimosato：
“ Low Temperature Sputtter-Deposition of Ni-Zn Ferrite Thin-Films UsingElectron-Cyclotron-Resonance Microwave Plasma,”
ABSTRACTS, 47th Annual Conference on MAGNETISM AND MAGNTIC MATERIALS, FG-02, p.302,Tampa, Florida USA, (Nov.11-15, 2002).
26. H. Wada, S. Yamamoto, H. Kurisu, M. Matsuura, and Y. Shimosato：
“Deposition of Ni-Zn Ferrite Backlayers for Perpendicular MagneticRecording Media By Reactive ECR Sputtering Method,”
The 7th Asian Symposium on Information Storage Technologiy (ASIST-7), MR2002-38, pp.7-11, Hanyang University, Seoul, Korea(Nov. 7-8, 2002).
27. 和田宏文，山本節夫，栗巣普揮，松浦 満，下里 義博：
“反応性ECRスパッタリング法によるNi-Znフェライト薄膜の作製,”
第26回日本応用磁気学会学術講演概要集, 20aE-5, p.468, 東京農工大学
(Sep. 17-20, 2002).