反応スパッタリング装置
- 機関名カテゴリ
- その他
- 機関名
- 山口県産業技術センター
- 型番
- YE1721
- メーカー
- (株)ユーテック
- 機器の主な仕様
- 【用途】
スパッタリング法およびプラズマＣＶＤ法によりセラミックス膜やダイヤモンドライクカーボン膜を真空中で試料表面に形成する装置
【仕様】
4インチマグネトロンスパッタリング×３，
ＩＣＰ電源(1kW)，ＲＦ電源(500W)
基板加熱回転機構(300℃以下) - 利用タイプ
- 相互利用（機器利用）
- 利用金額
- 1日：10,390円
- 問い合わせ先
-
技術相談･支援室
TEL : 0836-53-5053
MAIL : soudan@iti-yamaguchi.or.jp
※空欄の場合は各施設にお問い合わせください。
※相互利用（機器利用）とは、利用者がご自身で機器を操作し、測定を行います。
※依頼測定（受託利用）とは、機器を管理する施設の職員が測定・解析を代行します。