UHV10元スパッタ装置
- 機関名カテゴリ
- 材料表面処理
- 機関名
- 山口大学
- 型番
- ES-350W
- メーカー
- EIKO ENGINEERING
- 機器の主な仕様
- 本スパッタ装置のチャンバーは、ロードロック室1室とスパッタ室2室で構成され、各スパッタ室には5種類のターゲットを装着され、真空を破ることなく、ターゲットを切り替えて薄膜形成が可能です。装置はUHV(超高真空)対応であり、マグネトロンスパッタ法にて薄膜形成が可能です。
●ターゲット：5元×2チャンバー＝10元スパッタ可
●到達圧力：3×10-7 Pa
●電源：RF 500W，DC 1kW
●基板寸法：～φ2インチ - 利用タイプ
- 相互利用（機器利用）
- 利用金額
- 山口大学構成員 1日：3,000円
山口大学構成員以外 1日：6,000円
※アドバイザーによる機器の利用代行や操作補助が発生する場合,山口大学構成員は1回3,000円,山口大学構成員以外は6,000円を加算 - 問い合わせ先
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リサーチファシリティマネジメントセンター事務室
TEL : 083-933-5258
MAIL : sh082@yamaguchi-u.ac.jp
※空欄の場合は各施設にお問い合わせください。
※相互利用（機器利用）とは、利用者がご自身で機器を操作し、測定を行います。
※依頼測定（受託利用）とは、機器を管理する施設の職員が測定・解析を代行します。