研究ブログ

更新予定


このページは、ホームページ係の岡本と江川が研究を行い次第随時更新していきます！
製膜装置や解析装置、クリーンルームもできれば公開予定です！乞うご期待！

三元スパッタブログ　（岡本担当）


ターゲット交換を実施しました！　　2026.5実施

まず、ターゲットがチャンバーの中にあるので、蓋になっている所をフォークリフトで外します！
フォークリフトで運搬中！ちなみにこのフォークリフトは三元スパッタ装置の専用設計です。
こちらが、チャンバーの中です！普段は超高真空状態なので、中々お見えになれない貴重な写真です！
ターゲットと基板の間にあるシャッターです！色々な物質が付着しているので意外と危険です！
こちらが、ターゲットです！上からCu、右下がNiCo2合金、左側がSiO2です！今回は、CuをFeに変更しました！

ターゲット交換が完了すると、また超高真空(圧力が10-5Paほど)状態に戻す必要があるので「ベーキング」というチャンバーを加熱して壁面などに吸着した分子を飛ばす工程を行います。これを2日ほど行うことで超高真空状態になります！


基板加熱機構の改良の道のり　　2026.6実施

まず基板加熱機構を確認します。5月に行ったチャンバー解放した際に一緒に確認しました。
通電も確認できたし、ハード的には問題ないかも？？
コントロールパネルに問題アリと睨んで取り外しを行っています。
配線が狭い。。。感電には最新の注意を払います。

写真がなくて申し訳ありませんが、コントロールパネルが原因でした！新しいコントローラを購入し取り付けも完了して、加熱の温度などもモニタリングできるようになりました！！
ここまで紆余曲折、ようやく学部時代からの夢であった、基板加熱を用いた製膜ができる。。！！